半導體產(chǎn)業(yè)是高科技行業(yè)，技術(shù)門檻高，產(chǎn)值也高，全球半導體行業(yè)今年的產(chǎn)值有望達到5000億美元。半導體制造不僅需要先進的光刻機，材料也是其中重要的一環(huán)，主要包括硅片、光刻膠、高純度試劑、CMP材料，濺射靶材也是其中之一。國內(nèi)濺射靶材行業(yè)龍頭公司江豐電子日前表示該公司已經(jīng)掌握了用于7nm工藝節(jié)點的金屬濺射靶材核心技術(shù)，目前正在積極與客戶溝通評價事宜。

　　高純金屬濺射靶材主要是指純度為 99.9%-99.999%的金屬靶材，應用于電子元器件制造的物理氣象沉積(PVD)工藝，是制備電子薄膜的關(guān)鍵材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源

　　產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。

　　根據(jù)江豐電子的資料，該公司生產(chǎn)的金屬濺射靶材主要有四種：鋁、鈦、鉭、鎢鈦靶。除此之外，公司生產(chǎn)的其他產(chǎn)品包括銅靶、鎳靶、鈷靶、鉻靶、陶瓷靶等濺射靶材以及金屬蒸發(fā)料、LCD 用碳纖維復合材料部件(主要包括碳纖維支撐、碳纖維傳動軸、碳纖維叉臂)等，同時公司對外出售從客戶端回收的鉭靶(含鉭環(huán))和鈦靶(含鈦環(huán))等，并向客戶提供環(huán)件的清洗翻新服務。

　　在金屬濺射靶材方面，江豐電子是國內(nèi)行業(yè)龍頭，根據(jù)該公司于8月29日發(fā)布2018年半年度報告，2018年上半年營業(yè)收入2.96億元，同比增長 18.11%;歸母凈利潤 0.25 億元，同比增長 19.48%。不過全球行業(yè)龍頭霍尼韋爾今年上半年營收213億美元，其中包括濺射靶材在內(nèi)的先進材料業(yè)務2018年上半年營收達到14.55億美元。

　　在新一代制程工藝所用的濺射靶材方面，江豐電子今天公告稱已經(jīng)掌握了7nm節(jié)點工藝的金屬濺射靶材的核心技術(shù)，目前正在積極與客戶溝通評價事宜，不過該公司并沒有提及具體詳情。

　　江豐電子的客戶包括臺積電、Globalfoundries、聯(lián)電、中芯國際等，不過現(xiàn)在7nm節(jié)點上只有臺積電有量產(chǎn)，GF、聯(lián)電都已經(jīng)退出先進工藝研發(fā)，中芯國際的7nm工藝還在早期探索階段。

　　此外，掌握7nm工藝用的金屬靶材跟掌握7nm工藝并不一樣，靶材并不影響工藝先進程度。此外，半導體行業(yè)對新產(chǎn)品、新技術(shù)的接納會有很長時間的認證測試過程，江豐電子在初次打入臺積電供應鏈時用了5-8年時間，不過現(xiàn)在的認證時間已經(jīng)大幅縮短到1-2年。

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